发明名称 蚀刻带及使用蚀刻带制造液晶显示器阵列基板之方法
摘要 一种蚀刻带及使用蚀刻带制造液晶显示器(LCD)阵列基板之方法,其中蚀刻带包括有一基板及一设置于基板上之蚀刻材料层,且蚀刻材料层涂覆有凝胶型蚀刻材料,使用蚀刻带制造液晶显示器阵列基板之方法包括以下步骤,首先于透明绝缘基板上形成一闸极、一第一电极与一闸极布线,接着形成一闸极绝缘层、一主动层、至少一欧姆接触层、一源极、及一汲极,接着形成至少一介电层、一储存电容之第二电极、及一资料布线,接着形成一画素电极、一闸极垫电极、及一资料垫电极,并形成一保护层,最后使用蚀刻带对形成于闸极垫电极上之保护层,以及形成于资料垫电极上之保护层进行蚀刻,以形成复数个接触孔。
申请公布号 TW200709425 申请公布日期 2007.03.01
申请号 TW095120287 申请日期 2006.06.07
申请人 LG飞利浦股份有限公司 发明人 吴载;金秀浦
分类号 H01L29/786(2006.01) 主分类号 H01L29/786(2006.01)
代理机构 代理人 许世正
主权项
地址 韩国