发明名称 制造方法和制造装置的操作方法
摘要 提供了一种能够提高发光装置的可靠性和亮度的制造系统,它使用很高纯度的蒸发用EL材料。该系统还能有效使用EL材料。代替玻璃瓶,可使用放入蒸发装置中的容器(第一容器11a),且材料制造商(18)直接在容器中储存EL材料(12),或者藉由昇华来提纯和储存。此容器然后输送到发光装置制造商(19)处进行蒸发。用该制造系统,可以防止杂质污染高纯度的EL材料。该系统还可消除从玻璃瓶输送EL材料至容器的麻烦。该容器可以由材料制造商回收,并且剩余在容器中的EL材料可以被收集,由制造系统重覆使用。
申请公布号 TWI275319 申请公布日期 2007.03.01
申请号 TW094144311 申请日期 2003.01.29
申请人 半导体能源研究所股份有限公司 发明人 村上雅一;大谷久;山崎舜平;桑原秀明
分类号 H05B33/10(2006.01) 主分类号 H05B33/10(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种制造方法,包含: 提纯容器中的蒸发材料; 在蒸发装置中放置第二装置,以致使之面对蒸发目 标;以及 为了蒸发,加热在蒸发装置中的容器。 2.一种制造装置的操作方法,包含: 密封在第二容器中的第一容器,该第一容器储存有 机材料; 将第二容器放入具有抽真空装置的制造装置; 从第二容器中取出第一容器,以便放置第一容器; 以及 为了蒸发,加热第一容器。 3.如申请专利范围第2项之操作方法,其中第一容器 在其内壁上有藉由昇华提纯的有机材料。 4.如申请专利范围第2项之操作方法,其中有机材料 是蒸发材料。 5.一种制造方法,包含: 提纯一蒸发材料; 储存该蒸发材料在第一容器中,并密封储存该蒸发 材料的第一容器在第二容器中; 传送该第二容器至一制造装置; 将该第二容器导入该制造装置,和将该第一容器从 该第二容器中取出以放置该第一容器;和 藉由电阻加热该制造装置而未曝露至空气的加热 该第一容器以蒸发该蒸发材料。 6.如申请专利范围第5项之制造方法,其中在该第一 容器的内壁上的蒸发材料藉由昇华而提纯。 7.如申请专利范围第5项之制造方法,其中该蒸发材 料为当成发光元件的阴极或阳极的导电材料。 8.如申请专利范围第5项之制造方法,其中在储存蒸 发材料后,该第一容器储存在第二容器中,而该第 二容器在惰性气体或真空中,和该第二容器放置在 该制造装置中而未曝露该第一容器至空气。 9.如申请专利范围第5项之制造方法,其中该制造装 置具有安装有排气泵的多数处理室,第一容器从第 二容器中取出的处理室,和一真空蒸发装置。 10.如申请专利范围第5项之制造方法,其中该第一 容器为一坩锅。 11.如申请专利范围第5项之制造方法,其中该第一 容器为可以接附于其上的盖密封的坩锅。 12.如申请专利范围第5项之制造方法,其中该第二 容器为一遮光容器。 13.如申请专利范围第5项之制造方法,其中该第二 容器为可承受解压和压力的容器。 14.如申请专利范围第5项之制造方法,其中一材料 制造商可清洁第一容器和第二容器中至少之一。 15.如申请专利范围第5项之制造方法,其中该材料 制造商可在蒸发后,回收附着至第一容器内壁的蒸 发材料以再使用。 16.如申请专利范围第5项之制造方法,其中该制造 装置为一真空蒸发装置。 17.如申请专利范围第5项之制造方法,其中该制造 装置为具有至少一真空蒸发装置的多重室。 18.一种制造方法,包含: 提纯一蒸发材料; 储存该蒸发材料在第一容器中,并密封储存该蒸发 材料的第一容器在第二容器中; 传送该第二容器至一制造装置; 将该第二容器导入该制造装置,和将该第一容器从 该第二容器中取出以放置该第一容器;和 藉由使用一电子枪的蒸发方法在该制造装置中而 未曝露至空气的加热该第一容器以蒸发该蒸发材 料。 19.如申请专利范围第18项之制造方法,其中在该第 一容器的内壁上的蒸发材料藉由昇华而提纯。 20.如申请专利范围第18项之制造方法,其中该蒸发 材料为当成发光元件的阴极或阳极的导电材料。 21.如申请专利范围第18项之制造方法,其中在储存 蒸发材料后,该第一容器储存在第二容器中,而该 第二容器在惰性气体或真空中,和该第二容器放置 在该制造装置中而未曝露该第一容器至空气。 22.如申请专利范围第18项之制造方法,其中该制造 装置具有安装有排气泵的多数处理室,第一容器从 第二容器中取出的处理室,和一真空蒸发装置。 23.如申请专利范围第18项之制造方法,其中该第一 容器为一坩锅。 24.如申请专利范围第18项之制造方法,其中该第一 容器为可以接附于其上的盖密封的坩锅。 25.如申请专利范围第18项之制造方法,其中该第二 容器为一遮光容器。 26.如申请专利范围第18项之制造方法,其中该第二 容器为可承受解压和压力的容器。 27.如申请专利范围第18项之制造方法,其中一材料 制造商可清洁第一容器和第二容器中至少之一。 28.如申请专利范围第18项之制造方法,其中该材料 制造商可在蒸发后,回收附着至第一容器内壁的蒸 发材料以再使用。 29.如申请专利范围第18项之制造方法,其中该制造 装置为一真空蒸发装置。 30.如申请专利范围第18项之制造方法,其中该制造 装置为具有至少一真空蒸发装置的多重室。 31.如申请专利范围第5项之制造方法,其中该蒸发 材料为一有机化合物或一金属材料。 32.如申请专利范围第18项之制造方法,其中该蒸发 材料为一有机化合物或一金属材料。 图式简单说明: 图1是实施方式1的示图; 图2是实施方式2的示图; 图3是实施方式3的示图; 图4是实施方式4的示图; 图5是实施方式5的示图; 图6是实施例1的示图; 图7A和图7B是表示叠层结构(实施例2)的示图; 图8是表示多室型制造装置的示图; 图9A和9B是表示在调节室中传送坩埚的示图; 图10A和10B是表示在调节室中传送坩埚到蒸发源支 架的示图; 图11是表示多室型制造装置(实施例5); 图12A和12B是分别表示坩埚外观和蒸发装置简化示 图;以及 图13A和13D是表示为了蒸发,容器再次注满的示图。
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