发明名称 微表面形貌之黏附力最小化之加工方法及其微结构
摘要 本发明系有关一种微表面形貌之黏附力最小化之加工方法及其微结构,其方法包括下列步骤:一、准备步骤;二、压痕产生步骤;三、除屑步骤;四、完成步骤。而可制成一微元件,其具有一工作表面,该工作表面上形成复数个平均分布且为渐缩状之压痕凹部,相邻之压痕凹部之距离被定义为间距,其系小于50微米,每一压痕凹部具有一凹部深度及一凹部宽度,该凹部深度系小于1微米,该凹部宽度系小于5微米。因此,本发明兼具微元件之抗黏附性及抗磨擦性均佳与制程简易之优点及功效。
申请公布号 TWI274626 申请公布日期 2007.03.01
申请号 TW094147015 申请日期 2005.12.28
申请人 国立虎尾科技大学 发明人 洪政豪;陈志贤
分类号 B23P9/02(2006.01) 主分类号 B23P9/02(2006.01)
代理机构 代理人 赵元宁 台中市南区建国南路1段263号2楼
主权项 1.一种微表面形貌之黏附力最小化之加工方法,其 包括: 一准备步骤:准备一微元件与一压痕装置,该微 元件具有一第一硬度及一工作表面,该工作表面大 体上为平坦面;该压痕装置具有复数个具有一第二 硬度之压痕块;该第一硬度系小于该第二硬度; 二压痕产生步骤:将该压痕装置之压痕凸部向该 工作表面施压,使该工作表面上形成复数个平均分 布且为渐缩状之压痕凹部,相邻之压痕凹部之距离 被定义为间距,其系小于50微米,每一压痕凹部具有 一凹部深度及一凹部宽度,该凹部深度系小于1微 米,该凹部宽度系小于5微米; 三除屑步骤:将压痕后产生之金属屑清除; 四完成步骤:取得一具有复数个压痕凹部之微元 件。 2.如申请专利范围第1项所述之微表面形貌之黏附 力最小化之加工方法,其中,该微元件系为碳钢,且 该压痕产生步骤中之施压的力系介于15mN至35mN之 间,该凹部宽度系介于该间距之0.05至0.5间。 3.如申请专利范围第1项所述之微表面形貌之黏附 力最小化之加工方法,其中,该压痕凹部系概呈圆 锥状。 4.如申请专利范围第1项所述之微表面形貌之黏附 力最小化之加工方法,其中,该压痕凹部系概呈角 锥状。 5.一种微表面形貌之黏附力最小化之微结构,系包 括: 一微元件,其具有一工作表面,该工作表面上形成 复数个平均分布且为渐缩状之压痕凹部,相邻之压 痕凹部之距离被定义为间距,其系小于50微米,每一 压痕凹部具有一凹部深度及一凹部宽度,该凹部深 度系小于1微米,该凹部宽度系小于5微米。 6.如申请专利范围第5项所述之微表面形貌之黏附 力最小化之微结构,其中,该凹部宽度系介于该间 距之0.05至0.5间。 图式简单说明: 第一图系传统元件间产生滑动阻力之示意图 第二A、第二B、第二C图系接触表面间之局部放大 示意图一、二及三 第三图系表面粗度以及黏附力与磨擦力之合的关 系示意图 第四图系本发明之加工设备之示意图 第五图系本发明之压痕产生步骤之示意图 第六A及第六B图系为本发明在20mN条件下之结果之 示意图及其局部剖视图 第七A及第七B图系为本发明在30mN条件下之结果之 示意图及其局部剖视图 第八图系本发明之表面形貌曲线之示意图 第九图系本发明之压痕凹部之示意图 第十图系本发明之另一种压痕凹部之示意图 第十一图系本发明之总力示意图 第十二图系本发明之加工方法之流程示意图
地址 云林县虎尾镇文化路64号