| 主权项 |
1.一种用来清洗在投影仪(41)中的光学透镜(10)之方 法,该投影仪可用来曝光一涂布有光敏光阻的基材 (100),该方法利用气体或气体混合物来进行以避免 在透镜(10)上有沉积物,其步骤包括: 提供一气体或气体混合物来源(20); 经由第一线(30)将该气体或气体混合物从来源(20) 输送至在投影仪(41)中的透镜(10); 对在第一线(30)中的气体或气体混合物之至少一物 质的第一分量进行第一测量; 清洗该等透镜(10); 藉由第二线(40)将该气体或气体混合物从透镜(10) 中移出而进入邻近的投影仪; 对在第二线(40)中的气体或气体混合物之至少一物 质的第二分量进行第二测量; 比较第一分量与第二分量;及 产生一讯号,以作为比较的结果之一函数。 2.如申请专利范围第1项之方法,其中该投影仪(41) 包含一照明来源(14),其可发射出波长193奈米或较 短的光而透过透镜(10)照射到基材(100)上。 3.如申请专利范围第1或2项之方法,其中当有产生 讯号的结果时,以另一组透镜来交换该透镜(10)。 4.如申请专利范围第3项之方法,其中系使用一种或 多种光学侦测器来进行第一及/或第二测量。 5.如申请专利范围第3项之方法,其中系使用一种或 多种电感应器来进行第一及/或第二测量。 6.如申请专利范围第3项之方法,其中系使用质谱仪 (60)来进行第一及/或第二测量。 7.如申请专利范围第6项之方法,其更包括步骤: 在气体或气体混合物从该透镜(10)移出时,于规则 的时间间隔中取出该气体或气体混合物的样品; 将该等样品暂时贮存在个别的室中;及 将该等样品相继地输入至质谱仪(60),以进行该第 二测量。 8.如申请专利范围第3项之方法,其中该步骤系在交 换或净化透镜(10)操作后立即执行。 9.如申请专利范围第8项之方法,其中基材(100)曝光 之进行系为所产生的讯号的一函数。 10.一种用来将图案投影到一涂布有光敏光阻的基 材(100)上之装置,其包括: 至少一透镜(10),其安排在基本上以气密方式密封 的外罩(12)内部; 一照明来源(14); 一用来清洗透镜(10)之气体或气体混合物来源(20); 一用来将气体或气体混合物输入至透镜(10)的第一 线(30),藉由其来连接来源(20)与外罩(12)内部; 一用来将气体或气体混合物从透镜(10)移出的第二 线(40),藉由其将外罩(12)内部与该装置的邻近(42)彼 此连接; 一控制单元(50),用来控制流入外罩(12)内部的气体 或气体混合物;及 一用来测量气体或气体混合物之物质分量的测量 单元(60),其连接至第二线(40)。 11.如申请专利范围第10项之装置,其定义有一用来 容纳测量用之气体或气体混合物的侦测室(68),该 侦测室安排在测量单元(60)与第二线(40)之间。 12.如申请专利范围第10或11项之装置,其中该测量 单元(60)为一质谱仪。 13.如申请专利范围第10或11项之装置,其中该测量 单元(60)系连接至第一线(30);或用来测量气体或气 体混合物的物质分量之另一测量单元系连接至第 一线(30),其中该另一测量单元或上述两侧测量单 元系都连接至该控制单元以传送测量结果。 14.如申请专利范围第11项之装置,其中该侦测室(68) 装置在测量单元(60)与第一线(30)之间。 15.如申请专利范围第11项之装置,其系由下列所定 义: 一阀(67),其装置在该第一线(30)及该第二(40)线的至 少其中之一,以提供至该透镜(10)的气体或气体混 合物或欲从透镜(10)移出的气体或气体混合物藉由 该阀而供应至该侦测室(68);及 一泵系统(64),用来将气体或气体混合物输入侦测 室(68)。 16.如申请专利范围第11项之装置,其中该侦测室(68) 具有多个样品室,该等样品室系暂时贮存该气体或 气体混合物的不同样品,以使该测量单元(60)进行 该等样品的分量测量。 图式简单说明: 第1图为根据本发明的典型具体实施例,其图式阐 明一用来清洗投影仪的透镜之安排。 |
