发明名称 金属氧化物辅助雷射脱附游离质谱法
摘要 本发明提供一种之不需外加基质、简单快速且成本低廉的金属氧化物辅助雷射脱附游离质谱法,其系包括(a)以具有光吸收能力的无机金属氧化物做为雷射脱附游离质谱法中辅助分析样品进行脱附游离的基材,及(b)以柠檬酸缓冲溶液做为提供分析样品质子化的来源。
申请公布号 TWI274874 申请公布日期 2007.03.01
申请号 TW093141290 申请日期 2004.12.30
申请人 国立交通大学 发明人 陈月枝;陈振泰;林亚玄
分类号 G01N30/72(2006.01) 主分类号 G01N30/72(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;何秋远 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 1.一种金属氧化物辅助雷射脱附游离质谱法,其系 包括: (a)以一具有光吸收能力之金属氧化物材料做为辅 助雷射脱附游离质谱法的基材;以及 (b)以柠檬酸缓冲溶液做为提供分析样品质子化的 来源。 2.如申请专利范围第1项之金属氧化物辅助雷射脱 附游离质谱法,其中金属氧化物材料具有紫外光至 红外光波长范围的吸收能力。 3.如申请专利范围第1项之金属氧化物辅助雷射脱 附游离质谱法,其中所使用的雷射波长为紫外光至 红外光范围。 4.如申请专利第1项之金属氧化物辅助雷射脱附游 离质谱法,其系不需要外加有机基质(matrix-free)。 5.如申请专利第1项之金属氧化物辅助雷射脱附游 离质谱法,其系直接以基质辅助雷射脱附游离质谱 仪(MALDI-MS)进行分析。 6.如申请专利第1项之金属氧化物辅助雷射脱附游 离质谱法,其中雷射系使用高于传统基质辅助雷射 脱附游离质谱法所需之能量。 7.如申请专利第1项之金属氧化物辅助雷射脱附游 离质谱法,其中分析样品系与柠檬酸缓冲溶液混合 后直接以金属氧化物进行质谱分析。 8.如申请专利第1项之金属氧化物辅助雷射脱附游 离质谱法,其中金属氧化物经过表面修饰或改质后 仍然具有辅助分析物脱附游离之能力。 图式简单说明: 第1图为本发明制作例1所制得经过高温处理后的 混掺聚乙二醇之二氧化钛薄膜的吸收光谱图。 第2图为本发明制作例1所制得经过高温处理后的 混掺聚乙二醇之二氧化钛薄膜的电子显微镜照片 。 第3图是依照本发明实施例1侦测分析阳离子型界 面活性剂溶液所得之质谱图。 第4图是依照本发明实施例2侦测分析缓动素所得 到之质谱图。 第5图是依照本发明实施例3侦测分析胰岛素所得 到之质谱图。 第6图是依照本发明实施例4侦测分析胰蛋白脢原 所得到之质谱图。 第7图是依照本发明实施例5侦测分析细胞色素C消 化反应后的胜片段所得到之质谱图。
地址 新竹市大学路1001号