| 主权项 |
1.一种侦测缺陷喷嘴之装置,其包含有: 一列印单元,其包含有一由复数个喷嘴所组成之喷 墨元件,由该喷墨元件喷印一预设二维测试图案, 而该预设二维测试图案系由一指示标志及复数个 区块组合而成,各该区块系对应于各该喷嘴之位置 ; 一二维扫描单元,系具有一参考点,以使该指示标 志对准该参考点,而用以扫描该预设二维测试图案 ,以产生一预设二维测试图案之影像资料; 一记忆单元,系用以储存该二维扫描单元进行扫描 后所产生之该预设二维测试图案之影像资料;及 一分析单元,系用以分析由该记忆单元传送之该预 设二维测试图案之影像资料,以判别出具有缺陷之 该喷嘴所在之位置,并将其回传至该列印单元,以 于之后列印时,用正常之该喷嘴补偿具有缺陷之该 喷嘴,以提高列印品质。 2.如申请专利范围第1项所述之侦测缺陷喷嘴之装 置,其中该二维扫描单元系为一光学扫描装置。 3.如申请专利范围第1项所述之侦测缺陷喷嘴之装 置,其中该分析单元系由一微处理器所组成。 4.如申请专利范围第1项所述之侦测缺陷喷嘴之装 置,其中该分析模组系依据分析之结果,建立一对 应于具有缺陷之喷嘴的遮罩,并将其回传给该列印 单元,以于之后列印时,用正常之该喷嘴补偿具有 缺陷之该喷嘴。 5.如申请专利范围第1项所述之侦测缺陷喷嘴之装 置,其中该复数个区块系包含一黑色区块与至少一 彩色区块,且该黑色区块系包含复数个矩形,而该 些彩色区块亦包含复数个矩形。 6.一种侦测缺陷喷嘴之方法,系应用于一二维扫描 单元及与其连结之一具有一喷墨元件之列印单元, 该喷墨元件系包含有一个以上之喷嘴,该侦测缺陷 喷嘴之方法包含下列步骤: 列印一预设二维测试图案,该预设二维测试图案系 对应于该喷墨元件中之各该喷嘴; 传送该预设二维测试图案至该二维扫描单元,并对 准该预设二维测试图案于该二维扫描单元之一预 定位置; 扫描该预设二维测试图案,以产生一预设二维测试 图案之影像资料; 储存该预设二维测试图案之影像资料; 分析该预设二维测试图案之影像资料;及 回传分析所得之结果至该列印单元,以于之后列印 时,用正常之喷嘴补偿具有缺陷之喷嘴,以提高列 印品质。 7.如申请专利范围第6项所述之侦测缺陷喷嘴之方 法,其中该列印一预设二维测试图案,该预设二维 测试图案系对应于该喷墨元件中之各该喷嘴的步 骤,系由该列印单元列印出该预设二维测试图案。 8.如申请专利范围第6项所述之侦测缺陷喷嘴之方 法,其中该扫描该预设二维测试图案,以产生一预 设二维测试图案之影像资料的步骤,系由该二维扫 描单元扫描该预设二维测试图案。 9.如申请专利范围第6项所述之侦测缺陷喷嘴之方 法,其中该分析该预设二维测试图案的步骤,系由 该预设二维测试图案中空白的部份,判别出相对应 之具有缺陷的该喷嘴。 10.如申请专利范围第6项所述之侦测缺陷喷嘴之方 法,其中该列印一预设二维测试图案的步骤,系包 含下列步骤: 列印单色之该预设二维测试图案;及 列印彩色之该预设二维测试图案。 11.如申请专利范围第6项所述之侦测缺陷喷嘴之方 法,其中该回传分析所得之结果至该列印单元的步 骤,系包含建立一对应于具有缺陷之该喷嘴的一遮 罩,并将其回传给该列印单元的步骤。 12.如申请专利范围第6项所述之侦测缺陷喷嘴之方 法,其中该列印一预设二维测试图案的步骤,更包 含列印一指示标志于该预设二维测试图案周围,以 对准该指示标志于该二维扫描单元之该预定位置 。 图式简单说明: 第1图系为本发明侦测缺陷喷嘴之装置的系统架构 图; 第2图系为多功能事务机之立体图; 第3图系为单色列印时其预设二维测试图案之示意 图; 第4图系为彩色列印时其预设二维测试图案之示意 图; 第5图系为当某些喷嘴故障而无法进行正常的列印 时,其对应之区块呈现空白状况之示意图;及 第6图系为本发明侦测缺陷喷嘴之方法的方法流程 图。 |
