| 主权项 |
1.一种光源装置,包含: 一发光单元,系发射一光束; 一匀光单元,具有一邻近该发光单元并供该光束进 入的入射口及一远离该发光单元并供该光束射出 的出射口,其中该出射口具有一有效区域及设于该 有效区域周围之一过填满区域;以及 一反射单元,系遮蔽该过填满区域,使投射至该过 填满区域的光束系被沿反向反射,以再依序经该发 光单元及该入射口射离该出射口。 2.依据申请专利范围第1项所述之光源装置,其中该 发光单元包含一椭球型反射罩。 3.依据申请专利范围第1项所述之光源装置,其中该 发光单元包含一抛物面型反射罩及一介于该抛物 面型反射罩及该入射口之间的聚光透镜。 4.依据申请专利范围第1项所述之光源装置,其中该 匀光单元为一空心积分柱及一实心积分柱其中之 一者。 5.依据申请专利范围第1项所述之光源装置,其中该 反射单元为一平板,该平板具有一对应该有效区域 的开口,且该平板面对该匀光单元的表面具有一遮 蔽该过填满区域的反射面。 6.依据申请专利范围第5项所述之光源装置,其中该 反射面系一金属膜及一介电膜其中之一者。 7.依据申请专利范围第1项所述之光源装置,该匀光 单元为一实心积分柱,该反射单元为一形成于该出 射口的反射面,以遮蔽该过填满区域。 8.一种投影系统,包含: 一光源装置,系包括: 一发光单元,系发射一光束; 一匀光单元,具有一邻近该发光单元供该光束进入 的入射口及一远离该发光单元供该光束射出的出 射口,其中该出射口具有一有效区域及设于其周围 部分之一过填满区域;以及 一反射单元,设置于该出射口处,使投射至该过填 满区域的光束系被沿反向反射,以再依序经该发光 单元及该入射口而由该有效区域射离该匀光单元; 一光阀,将该光束调变成影像光束;及 一投影装置,接收该影像光束并投射至一萤幕上。 9.依据申请专利范围第8项所述之投影系统,其中该 匀光单元为一空心积分柱及一实心积分柱其中之 一者。 10.依据申请专利范围第8项所述之投影系统,其中 该反射单元为一平板,该平板具有一对应该有效区 域的开口,且该平板面对该匀光单元的表面具有一 遮蔽该过填满区域的反射面。 11.依据申请专利范围第10项所述之投影系统,其中 该反射面系一金属膜及一介电膜其中之一者。 12.依据申请专利范围第8项所述之投影系统,其中 该匀光单元可为一实心积分柱,该反射单元为一形 成于该出射口的反射面,以遮蔽该过填满区域。 13.依据申请专利范围第8项所述之投影系统,其中 该光阀选自一反射式液晶面板、一穿透式液晶面 板或一数位微镜元件所组成群体中之一者。 图式简单说明: 图1是一习知投影系统之一示意图; 图2是一示意图,说明光束投射在数位微镜元件及 数位微镜元件外部; 图3是本发明投影系统之第一实施例的一示意图; 图4是一分解图,说明一空心积分柱及一反射单元; 图5是一侧视图,说明一开口及一反射面; 图6是一侧视图,说明一实心积分柱及该反射面; 图7是一示意图,说明使光束均匀化之路径; 图8是本发明投影系统采用穿透式液晶面板之一示 意图;及 图9是本发明投影系统采用反射式液晶面板之一示 意图。 |
