发明名称 |
等离子体处理装置和处理方法及其电极元件 |
摘要 |
在一种等离子体处理装置中,一种具有三维网状网状结构的陶瓷多孔材料被用作为等离子体处理装置的电极元件材料,其中由含氧化铝的陶瓷所形成的框架部分被连续设置成类似一种三维网状物,该电极元件待安装于用于产生等离子体的电极的气体供给喷口的正面,并且使用于产生等离子体的气体通过以不规则方式形成于三维网状结构上的开孔部分。结果,使供给的气体分布均匀,以便防止异常放电,可进行无偏差的均匀蚀刻。 |
申请公布号 |
CN1302512C |
申请公布日期 |
2007.02.28 |
申请号 |
CN02812684.X |
申请日期 |
2002.06.24 |
申请人 |
松下电器产业株式会社;黑崎播磨株式会社 |
发明人 |
有田洁;岩井哲博;土师宏;酒见省二;俣野泰司;佐藤信博 |
分类号 |
H01J37/32(2006.01) |
主分类号 |
H01J37/32(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
陶凤波;侯宇 |
主权项 |
1.一种等离子体处理装置用电极元件,该等离子体处理装置包括一等离子体产生电极,该等离子体产生电极具有气体供给喷口,用以供给用于产生等离子体的气体至处理室,该电极元件安装至气体供给喷口的正面,其中,该电极元件包括用由一陶瓷多孔材料构成的框架部分制成的一三维网状结构和该三维网状结构的一孔部分,以及由该三维网状结构的孔部分限定的多个不规则路径,通过该多个不规则路径允许用于产生等离子体的气体通过该电极元件,其中该框架部分具有连续的三维各向同性结构且该孔部分均匀分布。 |
地址 |
日本大阪府 |