发明名称 复合量子点结构
摘要 一种复合量子点结构(4),包括电荷载流子限制区如量子点(2),阻挡(5)和导电层(3)。此结构允许导电层(3)的尺度基本上独立于区(2)的尺寸,使得由此可选择区(2)的尺度以便实现所需光学特性,而导电层(3)可具有足够的厚度来保证其可以得到可靠的沉积。该结构也可以包括包层(7)(图4)以便补偿阻挡(5)和导电层(3)之间化学亲合性的任何缺乏。可以提供这种结构的集合,其中量子点(1)具有不同的半径,但是导电层(3)的尺度和结构的总体尺度基本一致,以便例如用在配置成放大不同波长的光的放大器中。
申请公布号 CN1922736A 申请公布日期 2007.02.28
申请号 CN200580005844.4 申请日期 2005.02.28
申请人 特拉克达尔有限公司 发明人 迈克尔·G·伯特
分类号 H01L29/12(2006.01);B01J13/00(2006.01) 主分类号 H01L29/12(2006.01)
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人 杨生平;杨红梅
主权项 1.一种复合量子点结构,包括:电荷载流子限制区,由第一材料形成;阻挡,由所述第一材料以外的第二材料形成并且设置成将电荷载流子限制在所述电荷载流子限制区内;以及导电材料层,包围所述电荷载流子限制区和所述阻挡。
地址 英国萨福克郡法拉姆灵厄姆