| 发明名称 | 具有反馈电路的流体喷射装置 | ||
| 摘要 | 流体喷射装置包括多个流体喷射单元(130/230)，每个流体喷射单元是可控的以便导通在电源电压(120/220/320)与参考电压(122/222/322)之间的电流。在多个流体喷射单元的一个组(276)中多达全部流体喷射单元都被配置成在一个时间段内是导通的。当导通时，每个流体喷射单元具有相应的流体喷射电压。反馈电路(118/218)被配置成提供一个反馈电压(144/244/344)，它基本上等于正在导通的流体喷射单元上相应的流体喷射电压的平均值。 | ||
| 申请公布号 | CN1922018A | 申请公布日期 | 2007.02.28 |
| 申请号 | CN200580005880.0 | 申请日期 | 2005.02.16 |
| 申请人 | 惠普开发有限公司 | 发明人 | J·M·瓦德 |
| 分类号 | B41J2/05(2006.01) | 主分类号 | B41J2/05(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 程天正;陈景峻 |
| 主权项 | 1.一种流体喷射装置，包括：多个流体喷射单元(130/230)，每个流体喷射单元可控制地传导电源电压(120/220/320)与参考电压(122/222/322)之间的电流，其中多个流体喷射单元的组(276)中多达所有流体喷射单元被配置成在一个时间段内导通，当导通时，每个流体喷射单元具有相应的流体喷射电压；以及反馈电路(118/218)，被配置成提供反馈电压(144/244/344)，它基本上等于导通的流体喷射单元上的相应的流体喷射电压的平均值。 | ||
| 地址 | 美国德克萨斯州 | ||