发明名称 |
多功能真空连续镀膜装置 |
摘要 |
本发明公开了一种多功能真空连续镀膜装置,由真空镀膜室、泵抽及真空测量系统、气路及控制系统和控制各单元装置电源开关的电控系统组成,所述的气路及控制系统的各气路接入真空镀膜室,所述真空镀膜室内布控有电子枪、热蒸发电极和磁控溅射靶,还配有基带卷绕系统,该基带卷绕系统由分置在真空镀膜室两侧的放带室、收带室构成。它还配有机架台,真空镀膜室及基带卷绕系统固定在其上,泵抽系统安置在其内;机架台两侧有用于活性固定放带、收带室的小支架台。真空室内装有样品、电子枪、热蒸发舟和磁控溅射靶挡板。在电子枪与热蒸发舟之间、热蒸发舟与热蒸发舟之间均设有挡板。 |
申请公布号 |
CN1920091A |
申请公布日期 |
2007.02.28 |
申请号 |
CN200510093034.0 |
申请日期 |
2005.08.25 |
申请人 |
北京有色金属研究总院 |
发明人 |
杨坚;古宏伟;冯彬;金振奎;刘慧舟;屈飞;马平 |
分类号 |
C23C14/56(2006.01);C23C14/34(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/56(2006.01) |
代理机构 |
北京北新智诚知识产权代理有限公司 |
代理人 |
朱丽华 |
主权项 |
1、一种多功能真空连续镀膜装置,由真空镀膜室、泵抽及真空测量系统、气路及控制系统和控制各单元装置电源开关的电控系统组成,所述的气路及控制系统的各气路接入真空镀膜室,其特征在于:所述真空镀膜室内布控有电子枪、热蒸发电极和磁控溅射靶;真空镀膜室还配有基带卷绕系统,该基带卷绕系统由分置在真空镀膜室两侧的放带室、收带室构成。 |
地址 |
100088北京市新街口外大街2号 |