提供光学质量硅表面的方法

摘要

本发明提供了一种在光学系统，包括集成的光学波导器件结构上制备光学质量硅表面的系统和方法。粗糙表面通过干刻蚀过程形成。热氧化物在表面上通过湿或干的氧化过程生长。使用基于HF的溶液来刻蚀生长的氧化物，降低表面的粗糙度。为了获得所需程度的平滑度，可以重复进行本发明的过程。

主权项

1、一种形成硅光学表面的方法，该方法包括：刻蚀绝缘体硅基片形成具有光学表面的光学表面波导，其中所述光学表面至少包括粗糙刻蚀边缘和粗糙刻蚀平面之一；氧化光学表面的一部分，形成氧化区，其中使用扩散模具来选择性地改变氧的扩散速率，从而选择性改变氧化区的氧化速率，在所述部分内的表面粗糙度根据氧的扩散速率的选择性改变而改变；除去氧化区，其中光学表面的表面粗糙度降低了。