发明名称 用于具有深紫外光的高数值孔径成象的反折射成象系统
摘要 一种用于微光刻投射的反折射成象系统,以高数值孔径物镜为特征,其中通过限制反射和折射角来产生大部分聚焦能力,以避免额外像差。在浸没配置中,对Mangin镜添加场校正光学部件,用于提高数值孔径。Mangin镜和场校正光学部件之间的光学连接安排成通过限制入射角或折射率差异来控制折射角度。在光瞳中实现径向对称偏振效果,从而改善象对比度。
申请公布号 CN1922528A 申请公布日期 2007.02.28
申请号 CN200580005129.0 申请日期 2005.02.08
申请人 康宁股份有限公司 发明人 J·E·韦布
分类号 G02B7/18(2006.01);G03F7/20(2006.01) 主分类号 G02B7/18(2006.01)
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 代理人 陈斌
主权项 1.一种反折射成象系统,包含:双反射Mangin镜,它具有:光透射体,在所述光透射体的第一侧的部分反射面,在所述光透射体的第二侧的凹反射面,在所述凹反射面内的孔径,以及在所述光透射体的第二侧的所述凹反射面的所述孔径内的凹折射面;在所述光透射体的第二侧的所述凹反射面和所述凹折射面具有位于沿公共光轴上的相反方向的标称曲率中心,用于减小成象光通过所述孔径离开所述光透射体的折射角;以及用于校正象场内的象差的场校正透镜,该场校正透镜具有靠近所述凹折射面的凸折射面。
地址 美国纽约州