一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶

摘要

本实用新型提出一种具有在线清洗功能和预防离子刻蚀清洗过程污染的磁控溅射靶。这种磁控溅射靶的靶材为圆管形或圆盘形或圆环形，可绕其中心轴线旋转，在旋转所经过的部分圆周区域用屏蔽壁形成局部空间，其中充入惰性气体；通过内部磁场控制，在靶材的圆管形外表面上，形成两组发射方位基本固定的轴向长条形溅射跑道，主溅射电源连接于靶材与镀膜机主阳极之间，进行溅射镀膜，辅助清洗电源连接于靶材与局部空间内的清洗阳极之间，对靶材表面溅射刻蚀清洗。这种磁控溅射靶在较高的反应气体浓度下，也能够保持靶面的溅射工作状态稳定，提高了化合物薄膜的沉积速率，本实用新型还便于对靶材进行离子刻蚀清洗，基本防止了工件表面污染和靶材之间的交叉污染。

主权项

1.一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶，其特征在于：具有可绕其中心轴线旋转的靶材，在旋转所经过的部分圆周区域用屏蔽壁形成局部空间，局部空间内为惰性气体气氛。