发明名称 SUBSTRATO PARA SISTEMAS DISPENSADORES DE MATERIALES VOLATILES
摘要 <p>Un substrato para ser utilizado en un dispositivo dispensador de materiales volátiles que de manera activa dispensa material volátil desde el substrato, teniendo el dispositivo dispensador de materiales volátiles una ranura a través de la cual el substrato puede ser insertado para cargar el substrato en el dispositivo dispensador de volátiles, comprendiendo el substrato partículas granulares entre si de manera de formar un cuerpo que tiene una red de poros y pasadizos, cuyas superficies interiores son no reactivas y no absorbentes con respecto al material volátil a ser dispensado; y un material volátil dispuesto en los poros; en el cual el substrato toma una forma adecuada para ser insertado en la ranura; y en el cual la activacion del dispositivo dispensador de volátiles libera el material volátil desde los poros, en el que el material volátil es seguidamente dispensado.</p>
申请公布号 AR052095(A2) 申请公布日期 2007.02.28
申请号 AR2006P100273 申请日期 2006.01.25
申请人 S.C. JOHNSON & SON, INC. 发明人
分类号 A01M1/20;A01N25/34;A01N53/00;A61L9/03;A61L9/12;(IPC1-7):A01M1/20 主分类号 A01M1/20
代理机构 代理人
主权项
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