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发明名称
FORMING METHOD OF CONTACT HOLE IN SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号
KR100685675(B1)
申请公布日期
2007.02.23
申请号
KR20040049891
申请日期
2004.06.30
申请人
发明人
分类号
H01L21/28
主分类号
H01L21/28
代理机构
代理人
主权项
地址
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