发明名称 Verfahren zum Entwurf von integrierten Schaltungen
摘要 Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Entwurf von integrierten Schaltungen, speziell der Entwurfsregelbeschreibung und -prüfung, bei dem in ein und derselben Prozessebene unterschiedliche Entwurfsregeln gelten sollen, z. B. bei einer Metallisierungsebene zur Herstellung von Leitbahnen in einer Hochvolt-Smart-Power-Schaltung, bei der Leitbahnen mit unterschiedlichen Potentialen vorhanden sind. Das Verfahren verbessert die Fehlerkontrolle, ist rationell und führt zu einer Flächeneinsparung auf der Halbleiterscheibe.
申请公布号 DE102005036207(A1) 申请公布日期 2007.02.22
申请号 DE200510036207 申请日期 2005.08.02
申请人 X-FAB SEMICONDUCTOR FOUNDRIES AG 发明人 LERNER, RALF
分类号 H01L21/768;G06F17/50 主分类号 H01L21/768
代理机构 代理人
主权项
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