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发明名称
Vorrichtung und Verfahren zur Prüfung von Halbleiter-Wafern
摘要
申请公布号
DE112005000828(T5)
申请公布日期
2007.02.22
申请号
DE200511000828
申请日期
2005.04.13
申请人
KOMATSU ELECTRONIC METALS CO. LTD.
发明人
NABESHIMA, FUMI;TOGASHI, KAZUYA;JIKEN, HIROSHI;SUENAGA, YOSHINORI
分类号
H01L21/66;G01N21/47;G01N21/95
主分类号
H01L21/66
代理机构
代理人
主权项
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