| 主权项 |
1.一种滚筒式电化学反应装置,是透过一电连线形 成电流回路并受到外加电流的作用,包含: 一电解槽,具有界定出一槽室的一槽壁,该槽室是 容置有中性电解液; 一加工电极组,具有可旋动地容置在该电解槽槽室 内的一电极滚轮,该电极滚轮是与该电连线导接, 并具有形成在一轮面的数加工电极;及 一金属板片,是容置在该槽室内且面向该电极滚轮 ,该金属板片是与该电连线导接,而形成工件电极, 并与该电极滚轮上的加工电极产生电化学反应。 2.依据申请专利范围第1项所述之滚筒式电化学反 应装置,其中,该金属板片是作为阳极,该加工电极 组是作为阴极,该金属板片面向该加工电极组的一 表面是产生离子化反应而溶解,该加工电极组可以 使通过的电解液产生还原反应。 3.依据申请专利范围第1项所述之滚筒式电化学反 应装置,其中,该加工电极组是作为阳极,该金属板 片是作为阴极,该加工电极组可以使通过的电解液 产生离子化反应,使该金属板片面向该加工电极组 的一表面发生还原反应。 4.依据申请专利范围第1项所述之滚筒式电化学反 应装置,更包含有一输送模组,该输送模组具有数 导轮,该等导轮是牵引该金属板片进、出该电解槽 的槽室,及通过该电极滚轮。 5.依据申请专利范围第4项所述之滚筒式电化学反 应装置,其中,该输送模组更具有容置在该电解槽 槽室内的二滚轴,及一输送带,该等滚轴是相隔一 段间距且沿水平方向排列,该输送带是环绕该等滚 轮且能拖带该金属板片。 6.依据申请专利范围第5项所述之滚筒式电化学反 应装置,其中,该输送带是一种磁性元件。 7.依据申请专利范围第1项所述之滚筒式电化学反 应装置,更包含有至少一磁性元件,该磁性元件是 相对应于容置在该槽室电解液内的金属板片,使容 置在电解液内的金属板片受磁场影响保持平坦。 8.依据申请专利范围第7项所述之滚筒式电化学反 应装置,其中,该磁性元件是邻近该电解槽槽壁一 底部且设置在该电解槽的槽室内。 9.依据申请专利范围第7项所述之滚筒式电化学反 应装置,其中,该磁性元件是邻近该电解槽槽壁一 底部且设置在该电解槽的槽室外。 10.依据申请专利范围第7项所述之滚筒式电化学反 应装置,更包含有一输送模组,该输送模组具有数 导轮,该等导轮是牵引该金属板片进、出该电解槽 的槽室,及通过该电极滚轮。 11.依据申请专利范围第10项所述之滚筒式电化学 反应装置,其中,该输送模组更具有二滚轴,及一输 送带,该等滚轴是相隔一段间距且沿水平方向排列 ,该输送带是环绕该等滚轮。 12.依据申请专利范围第11项所述之滚筒式电化学 反应装置,其中,该滚轴与该输送带是容置在该电 解槽槽室内,该输送带是可拖带该金属板片,且该 磁性元件是设置在该输送带间并邻近该金属板片 。 13.依据申请专利范围第11项所述之滚筒式电化学 反应装置,其中,该滚轴与该输送带是设置在该电 解槽槽室外,且该磁性元件是布设在该输送带一内 表面。 14.依据申请专利范围第1项所述之滚筒式电化学反 应装置,其中,该加工电极组更具有一基座及一马 达,该基座是跨置在该电解槽上,并具有穿置入该 槽室内且枢设该电极滚轮的一对耳片,该马达是固 定在该基座上,且可驱动该电极滚轮转动。 15.依据申请专利范围第1项所述之滚筒式电化学反 应装置,其中,该中性电解液是一种中性去离子水 。 图式简单说明: 图1是一正视图,说明本发明滚筒式电化学反应装 置的一第一较佳实施例; 图2是该较佳实施例中一加工电极组的正视图; 图3是该较佳实施例电解状态的部份剖视图; 图4是一正视图,说明本发明滚筒式电化学反应装 置的一第二较佳实施例; 图5是一正视图,说明本发明滚筒式电化学反应装 置的一第三较佳实施例;及 图6是一正视图,说明本发明滚筒式电化学反应装 置的一第四较佳实施例。 |
