发明名称 量测平面显示器与晶片之间接触阻抗的方法及其结构
摘要 一种量测平面显示器与晶片之间接触阻抗的结构,此结构包括晶片与平面显示器。其中晶片上具有第一/第二/第三拟凸块,且第一/第二/第三拟凸块之间彼此电性连接。另外,平面显示器上具有第一/第二/第三拟接点以及第一/第二/第三/第四测试垫,且第一拟接点与第一测试垫电性连接,第二拟接点与第二/第三测试垫电性连接,第三拟接点与第四测试垫电性连接,此外,晶片上之第一/第二/第三拟凸块系分别与平面显示器上之第一/第二/第三拟接点接合。由于可以直接于平面显示器与晶片之间量测接触阻抗值,因此可以提高品管分析的效率。
申请公布号 TWI274219 申请公布日期 2007.02.21
申请号 TW092129997 申请日期 2003.10.29
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 顾建峰;张云华
分类号 G02F1/1345(2006.01) 主分类号 G02F1/1345(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 1.一种量测平面显示器与晶片之间接触阻抗的方 法,包括: 在一晶片上定义出一第一/第二/第三拟凸块,且该 第一/第二/第三拟凸块之间系彼此电性连接; 在一平面显示器上定义出一第一/第二/第三拟接 点并且定义出一第一/第二/第三/第四测试垫,其中 该第一拟接点系与该第一测试垫电性连接,该第二 拟接点系与该第二测试垫以及该第三测试垫电性 连接,该第三拟接点系与该第四测试垫电性连接; 进行一接合步骤,以使该晶片上之该第一/第二/第 三拟凸块分别与该平面显示器上之该第一/第二/ 第三拟接点接合在一起;以及 于该第一/第四测试垫其中之一以及该第二/第三 测试垫其中之一之间通入电流,并于另外二测试垫 之间量测电压,进而取得一接触阻抗値。 2.如申请专利范围第1项所述之量测平面显示器与 晶片之间接触阻抗的方法,更包括进行多次通入电 流以及量测电压之步骤,以取得复数个接触阻抗値 ,进而计算出一平均接触阻抗値。 3.如申请专利范围第2项所述之量测平面显示器与 晶片之间接触阻抗的方法,其中进行多次通入电流 以及量测电压之步骤包括: 在该第一测试垫以及该第二测试垫之间通入电流, 并在该第三测试垫以及该第四测试垫量测电压,以 取得一第一接触阻抗値; 在该第一测试垫以及该第三测试垫之间通入电流, 并在该第二测试垫以及该第四测试垫量测电压,以 取得一第二接触阻抗値; 在该第二测试垫以及该第四测试垫之间通入电流, 并在该第一测试垫以及该第三测试垫量测电压,以 取得一第三接触阻抗値;以及 在该第三测试垫以及该第四测试垫之间通入电流, 并在该第一测试垫以及该第二测试垫量测电压,以 取得一第四接触阻抗値。 4.一种量测平面显示器与晶片之间接触阻抗的结 构,包括: 一晶片,该晶片上具有一第一/第二/第三拟凸块,且 该第一/第二/第三拟凸块之间系彼此电性连接;以 及 一平面显示器,该平面显示器上具有一第一/第二/ 第三拟接点以及一第一/第二/第三/第四测试垫,且 该第一拟接点系与该第一测试垫电性连接,该第二 拟接点系与该第二/第三测试垫电性连接,该第三 拟接点系与该第四测试垫电性连接, 其中该晶片上之该第一/第二/第三拟凸块系分别 与该平面显示器上之该第一/第二/第三拟接点接 合在一起。 图式简单说明: 第1图是习知一种平面显示器与晶片之COG制程的剖 面示意图; 第2图是依照本发明一较佳实施例之量测平面显示 器与晶片之间接触阻抗之结构中晶片的上视示意 图; 第3图是第2图之量测平面显示器与晶片之间接触 阻抗之结构中平面显示器的上视示意图; 第4图是第2图之晶片以及第3图之平面显示器接合 之后的结构剖面示意图,其系为对应于第2图以及 第3图由a-a'位置之剖面示意图;以及 第5图是第4图之量测平面显示器与晶片之间接触 阻抗之结构的等效电路示意图。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号