| 主权项 |
1.一种立体构造元件,其特征在于: 具有基板、与配置在该基板上预先决定之有效区 域的立体构造体; 该立体构造体,在与该基板之间系具有藉由除去牺 牲层所形成之空间部; 该基板上,设有包围该有效区域之虚区域,该虚区 域中配置有虚构造体,该虚构造体在与该基板之间 ,系具有藉由除去牺牲层所形成之空间部。 2.如申请专利范围第1项之立体构造元件,其中,该 虚构造体与该基板对向部份之形状,系与该立体构 造体相同之形状。 3.如申请专利范围第1项之立体构造元件,其中,该 虚构造体具有用来将至少1处以上固定在该基材之 支柱。 4.如申请专利范围第1项之立体构造元件,其中,该 虚构造体,系具有覆盖该虚区域之薄膜、与配置在 该薄膜与该基材之间的复数个支柱。 5.一种光开关,系具有光导波路基板、与具备能位 移之反射镜的立体构造元件基板,其特征在于: 该立体构造元件基板系具有基板、与配置在该基 板上预先决定之有效区域的立体构造体; 该立体构造体,系包含该反射镜、与搭载该反射镜 之位移部,该位移部在与该基板之间,具有藉由除 去牺牲层所形成之空间部; 该基板上,设有包围该有效区域之虚区域,该虚区 域中配置有虚构造体,该虚构造体在与该基板之间 ,系具有藉由除去牺牲层所形成之空间部。 6.一种微装置,系具备能位移之薄膜立体构造体,其 特征在于: 具有基板,与配置在该基板上预先决定之有效区域 的该薄膜立体构造体; 该薄膜立体构造体在与该基板之间,系具有藉由除 去牺牲层所形成之空间部; 该基板上,设有包围该有效区域之虚区域,该虚区 域中配置有薄膜制之虚构造体,该虚构造体在与该 基板之间,系具有藉由除去牺牲层所形成之空间部 。 7.一种立体构造元件之制造方法,其特征在于,包含 : 形成制程,系在基板上预先决定之有效区域形成牺 牲层与既定形状之薄膜立体构造体,且在包围该有 效区域之虚区域,形成牺牲层与既定形状之薄膜虚 构造体;以及 除去制程,系藉由乾制程来除去该有效区域及该虚 区域之牺牲层。 图式简单说明: 第1图,系显示具备本发明一实施形态之有效区域20 、虚区域21、非有效区域22之立体构造元件之上面 形状的说明图。 第2图(a),系显示配置在第1图之立体构造元件之有 效区域20之立体构造体1上面形状的俯视图。(b),系 显示配置在第1图之立体构造元件之虚区域21之虚 构造体33上面形状的俯视图。 第3图,系第2图(a)之立体构造元件之A-A截面图。 第4图(a),系显示重叠第1图之立体构造元件与光导 波路基板190所构成之光开关形状的截面图。(b),系 显示重叠第1图之立体构造元件与光导波路基板190 所构成之光开关,藉由洛伦兹力,将立体构造体1之 反射镜2拉至下方状态之光开关形状的截面图。 第5图,系显示第4图之光开关之光导波路基板190之 一部份形状的立体图。 第6图之(a)~(f),系说明第1图之立体构成元件制程的 截面图。 第7图(a),系显示第1图之立体构造元件连续2个之状 态之上面形状的说明图。(b),系显示第1图之立体 构造元件连续2个之状态之截面形状,与抛光制程 中之各部温度分布的说明图。 第8图(a),系显示在本发明一实施形态之立体构造 元件中,当使用其他形状之虚构造体34来作为虚构 造体时,有效区域20与虚区域21之上面构成的说明 图。(b),系显示虚构造体34之上面形状的说明图。 第9图,系显示在本发明一实施形态之立体构造元 件中,当使用其他形状之虚构造体35来作为虚构造 体时,有效区域20与虚区域21之上面构成的说明图 。 第10图(a),系显示作为比较例,不具备虚区域之立体 构造元件连续2个之状态之上面形状的说明图。(b) ,系显示比较例之立体构造元件连续2个状态之截 面形状、与抛光制程中之各部温度分布的说明图 。 |
