| 发明名称 | 处理衬底的装置和处理电子源衬底的装置 | ||
| 摘要 | 一种用于在密封容器中处理衬底的衬底处理装置，该密封容器装配有排气管和气体引入管，气体引入管的引入口位于排气管内，以便在密封容器中、在排气管的排气口附近形成均匀的气氛。 | ||
| 申请公布号 | CN1917120A | 申请公布日期 | 2007.02.21 |
| 申请号 | CN200610115521.7 | 申请日期 | 2006.08.15 |
| 申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 高津和正 |
| 分类号 | H01J9/02(2006.01);H01J9/00(2006.01);H01J31/12(2006.01) | 主分类号 | H01J9/02(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 张浩 |
| 主权项 | 1.一种用于处理待处理衬底的表面的衬底处理装置，包括：密封容器，其装配有排气管和气体引入管，并能够将衬底的表面设置在密封气氛中；排气构件，通过排气管排出密封容器中的气体；和气体引入构件，通过气体引入管将气体引入密封容器中；其中气体引入管的引入口位于排气管内。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||