发明名称 |
再生去除痕量一氧化碳 |
摘要 |
本发明提供了一种利用改性斜发沸石吸附剂分离氢气和烃类化合物流中的一氧化碳,同时不吸附石蜡和烯烃等烃类化合物的方法。在精炼厂铂重整单元的普遍应用中,氢气流含有5-20ppm一氧化碳。在其他的应用中一氧化碳的含量会更高。分离氢气流中的一氧化碳通过使用斜发沸石分子筛实现,所述分子筛预先与选自锂、钠、钾、钙、钡和镁中的至少一种阳离子进行离子交换。 |
申请公布号 |
CN1918091A |
申请公布日期 |
2007.02.21 |
申请号 |
CN200480041730.0 |
申请日期 |
2004.12.16 |
申请人 |
环球油品有限责任公司 |
发明人 |
J·K·戈拉瓦拉;H·拉斯特利 |
分类号 |
C07C7/13(2006.01);C01B3/56(2006.01);B01J20/12(2006.01) |
主分类号 |
C07C7/13(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
李连涛 |
主权项 |
1.一种分离含烃类化合物或氢气流中少量一氧化碳的方法,所述方法包括将含一氧化碳的混合物与具有有效的孔径和形状的吸附剂接触,其中所述吸附剂排除烃类化合物分子,同时又足够大以吸附一氧化碳分子。 |
地址 |
美国伊利诺伊州 |