| 发明名称 | 用于角分解光谱光刻表征的方法与设备 | ||
| 摘要 | 一种通过在一高数值孔径透镜的光瞳面中测量一角分解光谱从而确定基底特性的设备与方法，所述角分解光谱是由反射离开所述基底的辐射形成的。所述特性可依角度和波长而变化，并可包括横向磁和横向电偏振光的强度及其相对相位差。 | ||
| 申请公布号 | CN1916603A | 申请公布日期 | 2007.02.21 |
| 申请号 | CN200510091733.1 | 申请日期 | 2005.08.15 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | A·J·登博夫;A·J·布里克;Y·J·L·M·范多梅伦;M·杜萨;A·G·M·基尔斯;P·F·鲁尔曼恩;H·P·M·佩勒曼斯;M·范德沙尔;C·D·格劳斯特拉;M·G·M·范克拉亚 |
| 分类号 | G01N21/49(2006.01);G01N22/00(2006.01);H01L21/66(2006.01);G03F7/00(2006.01) | 主分类号 | G01N21/49(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王岳;王忠忠 |
| 主权项 | 1.一种用于测量基底特性的散射仪，包括：一高数值孔径透镜；和一检测器，所述检测器被配置成用于检测从所述基底一表面反射的一辐射束的一角分解光谱，其中，在所述高数值孔径透镜的所述光瞳面中以多个角度同时测量所述反射光谱的特性，以便测量所述基底的所述特性。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||