用于真空处理装置之腔室及此真空处理装置

摘要

一种真空处理装置，系用以于基板上进行蚀刻制程或是沉积制程，如液晶显示面板之玻璃材料及半导体晶圆等之真空处理装置。真空处理装置之腔室包含有一腔室主体，其具有多边形状；至少一侧壁单元，系可选择地连接于腔室主体之一侧，并具有一水平部，其具有一曲面且平行于腔室主体之上表面；以及一上面板单元及一下面板单元，上面板单元及下面板单元可选择性地各自连接于腔室主体之上部与下部，而侧壁单元系用以覆盖腔室主体之上部及下部与侧壁单元。