光罩图案的校正方法及其形成方法

摘要

一种光罩图案的校正方法，其系先提供已根据一原始绘图资料形成有多个原始图案之测试光罩。然后，将测试光罩上之原始图案转移至第一光阻层，以对应形成多个第一显影后图案，并量测其第一尺寸。接着，对第一显影后图案进行图案微缩制程，以对应形成多个第一微缩后图案，并量测其第二尺寸。继之，计算第一尺寸与第二尺寸之偏差值，并收集原始绘图资料、第一尺寸、第二尺寸及偏差值以得到一资料库。随后，利用资料库之数据以建立光学邻近效应修正模型。接着，根据光学邻近效应修正模型对原始绘图资料进行校正，以得到校正后绘图资料。