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发明名称
半导体装置
摘要
本发明揭示一种半导体装置,该半导体装置包括一位于一藉由堆叠一互连层及一层间绝缘膜所形成之多层互连上之焊垫,该半导体装置包括一以一连续方式形成于该焊垫外圆周下方且具有防潮性之保护膜,该保护膜环绕该焊垫下方之该层间绝缘膜。
申请公布号
TW200707644
申请公布日期
2007.02.16
申请号
TW095123346
申请日期
2006.06.28
申请人
新力股份有限公司
发明人
宫森雄壹
分类号
H01L21/768(2006.01)
主分类号
H01L21/768(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
日本
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