发明名称 内埋元件之基板制程及其结构
摘要 一种内埋元件之基板制程。首先,提供一第一金属层以及一内埋元件,该第一金属层至少具有二第一凸点,其对应连接该内埋元件;接着,放置内埋元件于一核心层之一埋孔中;提供一第二金属层,且该第二金属层至少具有二第二凸点,其对应内埋元件;之后,依序压合第一金属层、核心层以及第二金属层,以使该二第一凸点与该二第二凸点分别电性连接该内埋元件;最后,图案化第一金属层,以形成一第一线路层;以及图案化第二金属层,以形成一第二线路层,且该内埋元件电性连接于该第一线路层与该第二线路层之间。
申请公布号 TW200707524 申请公布日期 2007.02.16
申请号 TW094126673 申请日期 2005.08.08
申请人 日月光半导体制造股份有限公司 发明人 洪清富;许武州
分类号 H01L21/02(2006.01) 主分类号 H01L21/02(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 高雄市楠梓加工出口区经三路26号
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