发明名称 氮化物半导体元件
摘要 本发明提供一种基板,其系使用矽(Si)之氮化物系半导体元件,其正方向电压(Vf)比先前低。本发明之于矽基板1002上包含氮化物半导体层1003之氮化物系半导体元件1001,其主动区域中包含矽基板1002之至少一部分与氮化物半导体层1003,且矽基板1002中之主动区域之导电型系p型。此外,于矽基板1002上包含氮化物半导体层1003之氮化物系半导体元件1001,其主动区域中包含矽基板1002之至少一部分与氮化物半导体层1003,且矽基板1002中之主动区域之许多载子系电洞(hole)。
申请公布号 TW200707803 申请公布日期 2007.02.16
申请号 TW095114914 申请日期 2006.04.26
申请人 日亚化学工业股份有限公司 发明人 成川幸男;三谷友次;市川将嗣;北野彰;三崎贵生
分类号 H01L33/00(2006.01) 主分类号 H01L33/00(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本
您可能感兴趣的专利