正型光阻组成物及光阻图型之形成方法

摘要

本发明为提供一种正型光阻组成物，其为含有经由酸之作用而增大硷溶解性之基材成份(A)，与经由曝光发生酸之酸产生剂成份(B)之正型光阻组成物，其中，前述基材成份(A)为，含有具有2个以上酚性羟基之分子量300至2500之多元酚化合物(a)中，前述酚性羟基被酸解离性溶解抑制基所保护之化合物(A1)，且前述化合物(A1)为，每一分子之保护数(个)之标准误差(σn)未达1，或每一分子之保护率(莫耳％)之标准误差(σp)未达16.7者。