发明名称 光阻组成物
摘要 本发明之课题系提供一种光阻组成物,不仅能够提高光阻调制时之溶解性、显影时之光阻膜黏附性的特性,亦能够提升光阻安定性、且具有优良的安全性。本发明之解决手系提供一种光阻组成物,系含有光阻成分及有机溶剂之光阻组成物,其中该有机溶剂系选自由(a1)C3–6链烷二醇、(a2)单烷氧基–C3–6链烷二醇、(b1)C5–6链烷二醇单乙酸酯、(b2)单烷氧基–C3–6链烷二醇单乙酸酯、(c1)C5–6链烷二醇二乙酸酯、及(c2)单烷氧基–C3–6链烷二醇二乙酸酯所组成群组中至少1种之溶剂。
申请公布号 TW200707096 申请公布日期 2007.02.16
申请号 TW095125969 申请日期 2006.07.17
申请人 戴西尔化学工业股份有限公司 发明人 牧泽克宪;片山彻
分类号 G03F7/004(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/004(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本