| 发明名称 |
光阻剥除剂组合物以及使用该组合物形成导线结构及制造薄膜电晶体基板之方法 |
| 摘要 |
本发明系关于一种光阻剥除剂组合物、一种藉助该组合物形成导线结构之方法以及一种使用该组合物制造薄膜电晶体基板之方法。该光阻剥除剂组合物包括约50WT％至约70WT％的二乙二醇丁醚、约20至约40WT％的烷基咯啶酮、约1WT％至约10WT％的有机胺化合物、约1至约5WT％的胺基丙基吗及约0.01至约0.5WT％的巯基化合物。 |
| 申请公布号 |
TW200707131 |
申请公布日期 |
2007.02.16 |
| 申请号 |
TW095121467 |
申请日期 |
2006.06.15 |
| 申请人 |
三星电子股份有限公司 |
发明人 |
朴弘植;金时烈;郑锺铉;申原硕 |
| 分类号 |
G03F7/42(2006.01);G03F7/11(2006.01);H01L29/786(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/42(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈长文;林嘉兴 |
| 主权项 |
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| 地址 |
韩国 |
