发明名称 图案形成装置及图案形成装置之制造方法
摘要 本发明提供一种高精度且低成本之图案形成装置。将(100)面方向之矽单晶作为母材,藉由光蚀刻步骤形成具有斜面部及图案材料引导槽之栉齿部。于形成引导槽之同一步骤中,形成与该栉齿部之各个栉齿共通地储存图案材料之储液部。形成斜面部时,藉由进行湿式非等向性蚀刻,利用面方向之蚀刻速度差,可高精度且容易地生成相对于面方向(100)具有面方向(111)之斜面部,又,藉由非等向性乾式蚀刻形成槽部,藉此可以高精度形成具有到达斜面部之垂直侧壁的图案材料引导槽。
申请公布号 TW200707085 申请公布日期 2007.02.16
申请号 TW095114576 申请日期 2006.04.24
申请人 OCTEC股份有限公司;大网板制造股份有限公司;东京威力科创股份有限公司 发明人 奥村胜弥;矢部学;小八木康幸;原田宗生;清元智文
分类号 G03F1/14(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/30(2006.01) 主分类号 G03F1/14(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本