发明名称 |
图案形成装置及图案形成装置之制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种高精度且低成本之图案形成装置。将(100)面方向之矽单晶作为母材,藉由光蚀刻步骤形成具有斜面部及图案材料引导槽之栉齿部。于形成引导槽之同一步骤中,形成与该栉齿部之各个栉齿共通地储存图案材料之储液部。形成斜面部时,藉由进行湿式非等向性蚀刻,利用面方向之蚀刻速度差,可高精度且容易地生成相对于面方向(100)具有面方向(111)之斜面部,又,藉由非等向性乾式蚀刻形成槽部,藉此可以高精度形成具有到达斜面部之垂直侧壁的图案材料引导槽。 |
申请公布号 |
TW200707085 |
申请公布日期 |
2007.02.16 |
申请号 |
TW095114576 |
申请日期 |
2006.04.24 |
申请人 |
OCTEC股份有限公司;大网板制造股份有限公司;东京威力科创股份有限公司 |
发明人 |
奥村胜弥;矢部学;小八木康幸;原田宗生;清元智文 |
分类号 |
G03F1/14(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/30(2006.01) |
主分类号 |
G03F1/14(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
日本 |