| 发明名称 |
在浸润式微影术中使用超临界流体以乾燥晶圆及清洁透镜 |
| 摘要 |
本发明揭露浸润式微影(immersion lithography)方法与系统，其包含透过浸润式微影工具的透镜与浸润液体(immersion liquid)照射光阻，该浸润液体位于浸润空间中与透镜及光阻接触；从浸润空间移除浸润液体；将超临界流体(supercritical fluid)注入于浸润空间中；从浸润空间移除超临界流体；以及将浸润液体注入于浸润空间中。 |
| 申请公布号 |
TW200707123 |
申请公布日期 |
2007.02.16 |
| 申请号 |
TW095123101 |
申请日期 |
2006.06.27 |
| 申请人 |
高级微装置公司;史班逊股份有限公司 |
发明人 |
撒柏瑞玛尼安 拉库马;希 巴威尔;范 |
| 分类号 |
G03F7/20(2006.01);G03F7/30(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪武雄;陈昭诚 |
| 主权项 |
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| 地址 |
美国 |
