发明名称 有机电致发光雷射修复方法及雷射修复装置
摘要 本发明提供一种修复有机电致发光元件缺陷之雷射修复方法及雷射修复装置。其可精确掌握有机电致发光元件缺陷部分之位置,用雷射光局部照射缺陷部分,不使存在缺陷部分之像素丧失该像素内有机电致发光元件整体之功能,而对缺陷部分以外之有机电致发光元件,于保存其发光功能之同时,仅对该像素内有机电致发光元件中之缺陷部分进行局部修复。其步骤为测量有机电致发光元件之电压、电流特性,将该电压、电流特性与特定之基准电压、电流特性进行比较,由此判断其有无漏泄电流,并对有机电致发光元件外加低于发光临界值之电压,取得漏泄发光图像,用雷射光照射漏泄发光部分进行修复。根据对有机电致发光元件外加低于发光临界值之电压,而没有漏泄发光图像;及测量电压、电流特性,其漏泄电流业已减少,来确认有机电致发光元件已得到正确修复。
申请公布号 TW200708183 申请公布日期 2007.02.16
申请号 TW094134408 申请日期 2005.09.30
申请人 艾特士股份有限公司 发明人 赤津光俊;三浦伸仁;筒井长德
分类号 H05B33/10(2006.01);H01S4/00(2006.01) 主分类号 H05B33/10(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本