二氧化矽系被膜形成用组成物

摘要

本发明之二氧化矽系被膜形成用组成物，系含有矽氧烷聚合物、与硷金属化合物。该矽氧烷聚合物以具有水解性基之矽烷化合物的水解缩合物较佳。上述硷金属化合物之硷金属系使用钠、锂、钾、铷及铯等。另外，该硷金属化合物系使用该硷金属之硝酸盐、硫酸盐、碳酸盐、氧化物、氯化物、溴化物、氟化物、碘化物、氢氧化物等。该二氧化矽系被膜形成用组成物，亦可含有空孔形成用材料。该空孔形成用材料可使用1种以上选自聚烷二醇及其末端烷基化物。