蚀刻组成物

摘要

本发明提供一种蚀刻组成物，该蚀刻组成物可于未发生下部膜之铝–钕或钼之底切现象之情形下，以单一制程对使用相同之组成物构成薄膜电晶体液晶显示装置之薄膜电晶体闸极配线材料之铝–钕／钼二重膜或钼／铝–钕／钼三重膜进行湿式蚀刻后，获得优良之锥形，并且即使是源极／汲极配线材料之钼单一膜，亦可形成优良之轮廓。本发明之薄膜电晶体液晶显示装置之蚀刻组成物包含磷酸、硝酸、乙酸、磷酸盐、阴离子界面活性剂、及水。