发明名称 |
晶圆或其他工作表面下污染物及缺陷非接触测量之差分波长光致发光 |
摘要 |
一种使用光致发光以辨识样本次表面区域中缺陷之方法,其包含执行样本之第一探测。以该第一探测为基础,产生第一资料组,其标示主要位于样本表面层中之缺陷。以第二探测为基础,产生第二资料组,其标示位于样本表面层及次表面区域中之缺陷。从第二资料组扣除第一资料组以产生一第三资料组,该第三资料组标示主要位于样本次表面区域中之缺陷。于该扣除之前,选择性地将第一资料组与该第二资料组进行常态化。第一及第二探测可有利地分别使用具有彼此不同波长之第一雷射及第二雷射来执行。 |
申请公布号 |
TW200706856 |
申请公布日期 |
2007.02.16 |
申请号 |
TW095122542 |
申请日期 |
2006.06.22 |
申请人 |
强化光学科技股份有限公司 |
发明人 |
尼可拉斯劳伦特;安德雷布茨考斯基;史帝夫胡梅尔;汤姆瓦克尔;艾密特夏伽夫 |
分类号 |
G01N21/63(2006.01);G01J3/00(2006.01) |
主分类号 |
G01N21/63(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
蔡清福 |
主权项 |
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地址 |
美国 |