| 摘要 |
一种设置在一长方形标靶背面之长方形磁控管，用以强化一溅镀反应器中之电浆以溅镀标靶材料至一长方形面板上。该磁控管的大小仅稍微小于该标靶且可在两互相垂直方向上扫描该标靶一段距离，例如，对2公尺标靶来说，该距离约100毫米。该扫描也可依循一双–Z形模式，沿着与一标靶侧边平行的两连接及两对角线扫描。该磁控管包括形成一回绕形状、一摺叠状或一矩形螺旋之一密闭的电浆回路，具有沿着一单一路径延伸一定宽度的一内部极其具有一磁性且完全被一极性相反之外部极所围绕。外部致动器可自一悬挂滑动的起重台(其可在与该腔室侧壁垂直方向上滑动)移动该磁电管。 |
