发明名称 发光二极体阵列构装结构及其方法
摘要 一种发光二极体阵列之构装方法,系先于基板上、驱动积体电路阵列之间形成沟渠结构,再将切割后之原始发光二极体晶片置入于相对应之沟渠结构中。在形成第一绝缘层于基板、发光二极体晶片与驱动积体电路上之后,平坦化此第一绝缘层。蚀刻发光二极体晶片以形成发光二极体发光区。于形成第二绝缘层于基板、发光二极体与驱动积体电路上之后,利用微影蚀刻制程而完成发光二极体发光区与驱动积体电路接脚间之电性连接。并进行切割制程以完成构装单元。最后,将构装单元固着于印刷电路板上,进行驱动积体电路与印刷电路板上之接脚打线接合。
申请公布号 TW200707787 申请公布日期 2007.02.16
申请号 TW094126615 申请日期 2005.08.04
申请人 光磊科技股份有限公司 发明人 杜顺利;锺怀谷;杨呈尉;林建宏;庄智宏;王虹东
分类号 H01L33/00(2006.01);H01L23/48(2006.01) 主分类号 H01L33/00(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财
主权项
地址 新竹县新竹科学工业园区创新一路8号