发明名称 积层聚酯薄膜、使用它之难燃性聚酯薄膜、覆铜积层板及电路基板
摘要 本发明提供,与被覆物之黏着性优良之聚酯薄膜,乃于聚酯膜之至少一面积层含聚酯树脂及唑系交联剂之树脂层,构成该聚酯树脂之全部二醇成分之40莫耳%以上系二甘醇,构成该树脂层之上述聚酯树脂与上述唑系交联剂之比率系质量比20/80~80/20之积层聚酯薄膜。以及,于该积层聚酯薄膜两面积层含聚醯亚胺之层而成之难燃性聚酯薄膜、使用该难燃性聚酯薄膜之覆铜积层板、使用该覆铜积层板之电路基板。
申请公布号 TW200706367 申请公布日期 2007.02.16
申请号 TW095118537 申请日期 2006.05.25
申请人 东丽股份有限公司 发明人 田中正太郎;大桥纯平;高田育
分类号 B32B27/36(2006.01);C08J5/18(2006.01);B32B15/08(2006.01);H05K1/03(2006.01) 主分类号 B32B27/36(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本