发明名称 |
积层聚酯薄膜、使用它之难燃性聚酯薄膜、覆铜积层板及电路基板 |
摘要 |
本发明提供,与被覆物之黏着性优良之聚酯薄膜,乃于聚酯膜之至少一面积层含聚酯树脂及唑系交联剂之树脂层,构成该聚酯树脂之全部二醇成分之40莫耳%以上系二甘醇,构成该树脂层之上述聚酯树脂与上述唑系交联剂之比率系质量比20/80~80/20之积层聚酯薄膜。以及,于该积层聚酯薄膜两面积层含聚醯亚胺之层而成之难燃性聚酯薄膜、使用该难燃性聚酯薄膜之覆铜积层板、使用该覆铜积层板之电路基板。 |
申请公布号 |
TW200706367 |
申请公布日期 |
2007.02.16 |
申请号 |
TW095118537 |
申请日期 |
2006.05.25 |
申请人 |
东丽股份有限公司 |
发明人 |
田中正太郎;大桥纯平;高田育 |
分类号 |
B32B27/36(2006.01);C08J5/18(2006.01);B32B15/08(2006.01);H05K1/03(2006.01) |
主分类号 |
B32B27/36(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
何金涂;何秋远 |
主权项 |
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地址 |
日本 |