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发明名称 Method for Forming Dielectric Film, Method for Fabricating Semiconductor Device, and Method for Fabricating Capacitor
摘要
申请公布号 KR100681384(B1) 申请公布日期 2007.02.15
申请号 KR20057006871 申请日期 2005.04.21
申请人 发明人
分类号 H01L21/316;H01L21/336 主分类号 H01L21/316
代理机构 代理人
主权项
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