发明名称 Vacuum valve and apparatus for fabricating semiconductor employing the same
摘要
申请公布号 KR20070019448(A) 申请公布日期 2007.02.15
申请号 KR20050074437 申请日期 2005.08.12
申请人 发明人
分类号 H01L21/02 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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