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发明名称 Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
摘要
申请公布号 DE60217283(D1) 申请公布日期 2007.02.15
申请号 DE2002617283 申请日期 2002.11.27
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 JACOBS, HERNES;VOSTERS, PIET;HOL, SVEN ANTOLN JOHAN;VAN DER SCHOOT, HARMEN KLASS;VAN DIESEN, ROBERT JOHANNES PETRUS;CALLAN, DAVID WILLIAM
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
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