| 发明名称 |
Lineares chemisch-mechanisches Polierwerkzeug mit an Ort und Stelle Verteilung der Polierzusammensetzung und gleichzeitigem konditionieren des Polierkissens |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE69934658(D1) |
申请公布日期 |
2007.02.15 |
| 申请号 |
DE19996034658 |
申请日期 |
1999.07.09 |
| 申请人 |
CHARTERED SEMICONDUCTOR MFG. PTE. LTD. |
发明人 |
SUDIPTO RANENDRA, ROY |
| 分类号 |
B24B37/04;B24B53/007;B24B57/02;B24D13/12;H01L21/304 |
主分类号 |
B24B37/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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