SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING USING LOW ENERGY HIGH TILT ANGLE ION IMPLANTATION,申请号KR20017016793-传众专利搜索

发明名称	SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING USING LOW ENERGY HIGH TILT ANGLE ION IMPLANTATION
摘要
申请公布号	KR100681969(B1)	申请公布日期	2007.02.15
申请号	KR20017016793	申请日期	2001.12.28
申请人		发明人
分类号	H01L21/265	主分类号	H01L21/265
代理机构		代理人
主权项
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