Verfahren und Vorrichtung zur Reduzierung systematischer Messfehler bei der mikroskopischen Untersuchung von Objekten

摘要

Bei der Fertigung von Halbleiterbauelementen werden die Strukturen üblicherweise in verschiedenen Ebenen gefertigt. Bei der Orientierung dieser Ebenen zueinander wird unter anderem auch eine Verschiebung beziehungsweise Ausrichtung untersucht und als Overlay-Fehler erkannt. Zur Verminderung eines systematischen Messfehlers wird eine Messanordnung (10) zum Messen des Overlay-Fehlers vorgeschlagen. Diese weist eine Beleuchtungseinrichtung (12), ein Objektiv (14) zum Fokussieren einer Strahlung der Beleuchtungseinrichtung (12) auf das Objekt (16) und einer Tubuslinse (18) zum Abbilden der Strahlung auf eine Sensoreinheit (20) auf. Im Strahlengang der Messanordnung (10) ist ein Kompensator (22) vorgesehen, in dem die Wellenfronten der einfallenden Strahlung spektral unterschiedlich so verkippt werden, dass eine Kompensation des axialen Farbquerfehlers erfolgt.