发明名称 STRUCTURE AND METHOD FOR IMPROVING PHOTORESIST PATTERN ADHESION
摘要 An anti-reflective coating comprises a plurality of main backbone chains, and at least one long free polymer chain coupled to at least one of the plurality of main backbone chains.
申请公布号 US2007037089(A1) 申请公布日期 2007.02.15
申请号 US20060427721 申请日期 2006.06.29
申请人 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY, LTD. 发明人 CHANG CHING-YU
分类号 G03C1/00 主分类号 G03C1/00
代理机构 代理人
主权项
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