发明名称 |
一种微光学透镜的制造方法 |
摘要 |
一种微光学透镜的制造方法,于微光学或微光电系统的基板上形成墙柱状结构,以高分子聚合物材料覆盖后,利用柱底基板的侧向蚀刻使之悬附于墙柱状结构的两侧,经隔离制作工艺及适当加热处理,该高分子聚合物材料因表面张力内聚,成一平凸透镜状。通过控制高分子覆盖层于墙柱状结构两侧悬附量的大小,可结合墙柱状结构直接形成复合材质的对称双凸微透镜、非对称双凸微透镜、平凸微透镜等。也可通过蚀刻制作工艺拓印高分子微透镜外型于墙柱状结构上形成单材质微透镜。 |
申请公布号 |
CN1300857C |
申请公布日期 |
2007.02.14 |
申请号 |
CN200410034476.3 |
申请日期 |
2004.04.14 |
申请人 |
中华电信股份有限公司 |
发明人 |
何充隆;何文章;廖枝旺 |
分类号 |
H01L31/00(2006.01);G03F7/00(2006.01);G02B6/00(2006.01) |
主分类号 |
H01L31/00(2006.01) |
代理机构 |
广州华进联合专利商标代理有限公司 |
代理人 |
曾旻辉;胡杰 |
主权项 |
1.一种微光学透镜的制造方法,其特征在于,包含以下步骤:A.提供基板,其至少包含基板与基板上成长的介电质层;B.在该介电质层上方施加蚀刻遮罩,以定义蚀刻区域;C.将该蚀刻区域向下移除第一厚度,并保留第二厚度,使该介电质层表面形成墙柱状结构;D.施加高分子聚合物膜覆盖于已具墙柱状结构的基板上;E.在该高分子聚合物膜上,定义微光学透镜体积;F.进行蚀刻制作工艺移除该高分子聚合物膜下方接触的介电质层,使高分子聚合物膜悬附于该墙柱状结构两侧面上;G.完全或部分移除该墙柱状结构上方的高分子聚合物膜,使该墙柱状结构两侧面的高分子聚合物膜完全隔离;H.将该墙柱状结构两侧面分离悬附的高分子聚合物膜进行高温烘烤,使高分子聚合物膜内聚成平凸透镜状,形成双凸微透镜。 |
地址 |
台湾省桃园县杨梅镇新荣里民族路5段551巷12号 |