发明名称 用于多批次控制的方法和系统
摘要 本发明公开了一种用于半导体制造的对多批次的处理进行控制的方法和系统。该控制方法利用处理模型建立处理控制输入数据与处理控制输出数据之间的关系。该控制方法包括使目标处理控制输出数据与预测的处理控制输出数据之间的差别最小,所述预测是通过将处理模型应用到新的处理控制输入数据而进行的。
申请公布号 CN1914618A 申请公布日期 2007.02.14
申请号 CN200580003999.4 申请日期 2005.02.01
申请人 东京毅力科创株式会社;先进微装置公司 发明人 岳红宇;约瑟夫·威廉·威瑟曼
分类号 G06F19/00(2006.01) 主分类号 G06F19/00(2006.01)
代理机构 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 代理人 王怡
主权项 1.一种对半导体制造系统中的处理进行控制的方法,包括:设定用于所述半导体制造系统中的所述处理的处理控制输入数据;测量来自所述半导体制造系统中的所述处理的处理控制输出数据;确定所述处理控制输出数据与所述处理控制输入数据之间的关系;将目标处理控制输出数据设定为目标处理结果;通过使所述目标处理控制输出数据与预测的处理控制输出数据之间的差最小化来计算新的处理控制输入数据,其中,所述预测的处理控制输出数据是用应用到所述新的处理控制输入数据的所述关系确定的。
地址 日本东京都